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News
2023-07-31
濺射沉積率是表征成膜速度的參數(shù)，其沉積率高低除了與工作氣體的種類與壓力、靶材種類與“濺射刻蝕區(qū)“的面積大小、靶面溫度與靶面磁場強度、靶源與基...
2023-07-28
當我們使用電子束光刻做pattern時，有時候會發(fā)現(xiàn)在一些特殊情況下，無法獲得完美的圖形（圖形變形、斷線等），這種情況極有可能是因為電子束光刻的充電...
2023-07-26
我們知道，在微納米技術(shù)的發(fā)展中MEMS一直是一個重要的應(yīng)用方向，MEMS技術(shù)在尺度上的特點是橫跨1um到1mm尺度且結(jié)構(gòu)復雜，除了常規(guī)我們使用的...
2023-07-26
PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vaper Deposition）是等離子增強化學氣相淀積，該技術(shù)是在低氣壓下，利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極...
2023-07-25
MOCVD全稱是Metal-Organic Chemical Vapour Deposition（金屬有機化合物化學氣相沉積設(shè)備），是在氣相外延（VPE）的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一...
2023-07-25
MEMS傳感器種類繁多，主要的MEMS傳感器包括運動傳感器、壓力、麥克風、環(huán)境、光傳感器等。其中運動傳感器可分為陀螺儀、加速度計、磁力計，&...
