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混合鍵合
2023-08-03

晶圓鍵合是近十幾年快速發(fā)展起來的新興半導體加工技術，在MEMS，CIS和存儲芯片等領域有著重要的應用，得到越來越多的關注。在信息的海洋中，晶...
光刻的性能指標
2023-08-02

1. 特征尺寸特征尺寸又稱為線寬(CD, critical dimension)。通常大家聽到的7 nm制程、14 nm制程中的7nm和14nm指的便是芯片的線寬。線寬指的是在...
各種濺射工藝的對比
2023-08-02

1. 直流濺射DCPVD：靶材只能是導體，主要用于沉積金屬柵。DCPVD是利用電場加速帶電離子，使離子和靶材表面原子碰撞，將后者濺射出來射...
各類型光刻技術的特點
2023-08-01

一、光刻技術：從接觸式到接近式　　接觸式光刻技術良率低、成本高：接觸式光刻技術出現(xiàn)于20世紀60年代，是小規(guī)模集成電路時期最主要的光刻技術。接觸...
電子束蒸發(fā)鍍膜
2023-08-01

一、電子束蒸發(fā)鍍膜簡述：電子束蒸發(fā)鍍膜（Electron Beam Evaporation）是物理氣相沉積的一種，與傳統(tǒng)蒸鍍方式不同，電子束蒸鍍利用電磁場的配合...
電子束光刻曝光劑量
2023-07-31

電子束光刻是一個相當復雜的過程，其曝光過程中涉及到電子束與物質的作用，這部分我們將在后續(xù)的過程中介紹，這里我們將介紹一下電子束光刻的曝光工藝...

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