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  • 紫外曝光的光反應過程
    紫外曝光的光反應過程

    2023-08-11

    曝光:在光刻膠膜中發(fā)生的化學過程導致其在顯影液中溶解度的增加(正膠)或減少(負膠),從而可以產生出特定結構光刻膠膜。 基于DNQ-基光引發(fā)劑的正膠...

  • 通用去膠方案
    通用去膠方案

    2023-08-10

    通用去除劑 在去膠發(fā)生困難的情況下(例如在密集的等離子蝕刻或濺射之后),超聲或兆聲清洗會對去除光刻膠帶來很大的幫助。但是,在此過程中必須保護襯...

  • 蝕刻工藝的精確計時
    蝕刻工藝的精確計時

    2023-08-10

    對于更緊密的幾何形狀和更薄的薄膜,需要在蝕刻速率與對其他操作參數(shù)的良好控制之間取得平衡。 “隨著設計規(guī)則的縮小,許多蝕刻工藝正在轉向非??焖俚?..

  • 離子束刻蝕(IBE)技術研究
    離子束刻蝕(IBE)技術研究

    2023-08-09

    1.離子束刻蝕(IBE)技術的原理? 離子束刻蝕(IBE,Ion Beam Etching)也稱為離子銑(IBM,Ion Beam Milling),也有人稱之為離子濺射刻...

  • 刻蝕剖面 Etch Cross-section
    刻蝕剖面 Etch Cross-section

    2023-08-09

    刻蝕剖面指的是被刻蝕圖形的側壁形狀。有兩種基本的刻蝕剖面:各向同性和各向異性刻蝕剖面。各向同性的刻蝕剖面是在所有方向上(橫向和縱向)以相同的...

  • 針尖光刻技術
    針尖光刻技術

    2023-08-08

    我們知道半導體工業(yè)的發(fā)展有一個很有名的“摩爾定律”,而保證半導體工業(yè)遵循“摩爾定律”發(fā)展的基石是光刻技術。光刻技術的發(fā)展始終有都有一個重要的...

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